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激光椭偏仪介绍纹路晶片防反射涂层和钝化层可以在单晶和多晶硅晶片上测量。
叠层防反射涂层
可以分析SiO2/SiNx、Al2O3/SiNx和SiNx1/SiNx2的涂层。
操作简单
不管是专家还是初学者，光谱椭偏仪SE 800 PV都提供了简单的操作。配方模式特别适合质量控制所需的常规应用。
激光椭偏仪是分析结晶和多晶硅太阳能电池防反射膜的理想工具。可以测量单层薄膜(SiNx、SiO2、TiO2、Al2O3)和多层叠层膜(SiNX/SiO2、SiNx1/SiNx2、SiNx/Al2O3)。
SE 800 PV是基于步进扫描分析器测量模式。步进扫描分析器模式允许将测量参数匹配到粗糙的样本表面，同时所有光学部件都处于静止状态。SE 800 PV的光源、光学部件和检测器进行了优化，以符合SENTECH的目标，即快速、准确地测量PV应用的折射率指数、吸收和膜厚。
高测量灵敏度、去偏振校正和特殊的集光光学使SE 800 PV成为在粗糙样品表面进行光伏应用的理想仪器。
光谱椭偏仪SE 800 PV具有操作简单的特点、便于研发应用。SpectraRay/4，SENTECH专有的椭偏仪软件，包括两种操作模式。配方模式允许在质量控制中轻松执行常规应用程序。交互模式具有指导性的图形用户界面，适合于研发应用和新配方的。
此外，SE 800 PV满足SENresearch光谱椭偏仪系列的所有要求。
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